浸透印章印油供给结构的改进专利登记公告

专利名称：浸透印章印油供给结构的改进

摘要： 本实用新型是一种浸透印章印油供给结构的改进。由印油座、印章体、控油座组成。控油座内有一隔体分隔其内腔成上下两空间，上空间联印油座，下空间装印章体。隔体中心有一圆孔，一直通孔的油针，一端插于印章体内，另一端置于隔体圆孔中。盖章时印章体使空气经圆孔进入印油座内，同时印油经油针的油孔均匀分布流入印章体内，能产生美观清晰的图面，无深浅不一的现象。是自动供给印油，使用极为方便。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN89215933.2

专利申请（专利权）人：洪昭光

专利发明（设计）人：洪昭光

主权项： 一种浸透印章印油供给结构，包括装有印油的印油座和印章体，其特征在于还有一个控油座４，上端与印油座２相封接，有一隔体４１将控油座４内腔分隔成上下两空间，印章体６装在下空间与隔体４１相联，隔体４１中心有一上下贯通的园孔４３，一具有直通油孔７０的油针７一端插入印章体６内，另一端伸入隔体４２的圆孔４３。

专利地区：上海