离子镀膜装置专利登记公告

专利名称：离子镀膜装置

摘要： 本实用新型涉及金属及非金属离子镀膜的装置。它包括：强脉冲装置、真空室并在真空室中装有工件架、离化极及其电源、靶及其电源、色度控制器，加热器及其电源、真空机组，可增强电流密度和活化程度，从面提高沉积速率。镀膜时可提高结合力，刻蚀时可加速刻蚀速率，由此在同一装置中完成，在金属及非金属基体上形成膜层图案，并分别对其图案进行色度处理。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN94212767.6

专利申请（专利权）人：赵振寰

专利发明（设计）人：赵振寰

主权项： 一种新型离子镀膜装置，其中包括：强脉冲装置、真空室并在真空室中装有工件架、离化极及其电源、靶及其电源、色度控制器、加热器及其电源、真空机组；其特征在于在真空室内采用双柱旋转靶的结构，增强电流密度和活化程度，从而，提高沉积速率；提高工件负偏压指数，按预定程序产生强脉冲，增强离子轰击能力，镀膜时可提高结合力，刻蚀时能加速刻蚀速率；使用一种高灵敏度的色度控制仪，通过电讯号的强弱，达到控制色度的目的，以满足所需部位的色度要求。

专利地区：北京