多功能全方位增强沉积型离子注入机专利登记公告

专利名称：多功能全方位增强沉积型离子注入机

摘要： 本实用新型提供一种多功能全方位增强沉积型离子注入机，它包括等离子体工件室（亦即真空室）以及与其相连的离子注入电源系统，等离子体产生系统，真空抽气系统，控制、测量系统，工作气体馈送系统和冷却系统组成。该装置通过热丝阴极放电、射频放电或利用合理的电磁场位形等多种方式产生金属等离子体。采用全线会切永磁壁有效约束等离子体、通过合理布置的多热丝和多孔送气系统等措施，可产生大体积的均匀等离子体。该机配备溅射靶和（或）蒸发靶，使该机除可以进行全方位离子注入改性外，还兼备涂层及离子增强沉积功能。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN94218387.8

专利申请（专利权）人：核工业西南物理研究院

专利发明（设计）人：尚振魁; 陈升芹; 曾旭初; 王惠三

主权项： 一种多功能全方位增强沉积型离子注入机，它包括等离子体工件室（亦即真空室）能及与其相连的离子注入电源系统，等离子体产生系统，真空抽气系统，控制、测量系统（８），工作气体馈送系统（７）和冷却系统，其特征在于：（ａ）等离子体工件室（亦即真空室）由永磁体（３）分布于圆柱形的真空室壁１的上壁的下部、侧壁的外围，射频耦合电板（２）位于室内上壁的永磁体（３）的下方，热丝阴极（４）均匀分布于真空室内，涂层溅射（蒸发）靶（５）分布于室内侧壁的内侧，室内的高压靶台（６）通过高压绝缘子与真空室壁（１）绝缘，（ｂ）离子注入电源

专利地区：四川