一种可控电弧靶专利登记公告

专利名称：一种可控电弧靶

摘要： 本实用新型为实现真空气相沉积技术中一种可控电弧靶，采用中心有孔的环形靶，靶周围联有导磁护板，磁铁能从环形靶靶中心穿过，造成大面积平行均匀强磁场，不仅有效加速弧斑在整个靶平面的运动，而且弧斑形成闭环轨迹。本实用新型结构简单、实用，特别适用于同时工作的多个弧靶设备上。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN94230705.4

专利申请（专利权）人：机械工业部武汉材料保护研究所

专利发明（设计）人：凌国伟; 潘邻; 沈辉宇; 郑辉

主权项： 一种有一定厚度的非导磁体可控电弧靶，其特征在于将该可控电弧靶制作成中心有孔的环形靶，靶的周围联有导磁护板，磁铁从环形靶的中心穿过，磁铁的一个磁极能穿出靶面，并可通过螺杆调整该磁极端面与靶面的相对位置，磁铁的另一极通过空间磁场和导磁护板将磁力线集中在护板接近靶边缘的一端，从而在整个靶表面形成大面积均匀平行于靶面的磁力线。

专利地区：湖北