四槽循环流动晶体生长装置专利登记公告

专利名称：四槽循环流动晶体生长装置

摘要： 四槽循环流动晶体生长装置。本实用新型属于晶体生长技术领域。本实用新型的主要技术特征在原来由生长槽、溶解槽、过热槽组成的三槽循环流动晶体生长装置的基础上又增加了过热平衡槽构成四槽循环流动晶体生长装置，它解决了目前三槽循环装置存在的溶液过热不充分，杂质进入生长槽，影响晶体生长的问题。本实用新型由于采用四槽循环，在晶体生长过程中可更换部件，滤去溶液中不溶杂质，消除溶液中的微生物，而不影响晶体生长，用较小体积生长容器生长出大晶体。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN94240897.7

专利申请（专利权）人：山东大学

专利发明（设计）人：鲁智宽; 高樟寿; 李义平

主权项： 一种由生长槽１、溶解槽２、过热槽３组成的四槽循环流动晶体生长装置，其特征是该四槽循环流动晶体生长装置有一个过热平衡槽４与过热槽３相连，过热平衡槽４的外壁套有一个恒温水夹套５，过热平衡槽４接管道６ａ经阀门６与生长槽１相连，在过热槽３密封盖３ａ上装有连续过滤装置７和紫外照射装置８。

专利地区：山东