带冲击缓冲功能的电场发光器件及用于其中的密封构件专利登记公告

专利名称：带冲击缓冲功能的电场发光器件及用于其中的密封构件

摘要：本发明提供一种可以缓冲来自外部的冲击、寿命长的EL器件。在EL器件(100)中，发光元件形成基片(18)通过在透明玻璃基片(10)上形成第1电极(12)，进而在第1电极(12)上形成发光元件层(16)，并进而在发光元件层(16)上形成第2电极(14)而构成。密封构件(40)从第2电极(14)一侧以覆盖的方式遮罩发光元件形成基片(18)的上方，在第2电极(14)和密封构件(40)的间隙(30)中配置柱状或球状或片状的冲击缓冲构件(20)。在该冲击缓冲构件(20)由硬质材料形成时，最好配置在EL器件的非发光区域上。

专利类型：发明专利

专利号：CN02104978.5

专利申请（专利权）人：三洋电机株式会社

专利发明（设计）人：山田努;西川龙司

主权项：权利要求书1、一种带有冲击缓冲功能的电场发光器件，其特征在于，包括：具有在基片上形成的第1电极和夹持发光层形成在上述第1电极上的第2电极的发光元件形成基片，覆盖上述发光元件形成基片的元件形成面一侧的密封构件，配置在上述发光元件形成基片与密封构件的间隙中的冲击缓冲构件。

专利地区：日本