使用两块掩模版实现连续扫描对两图形曝光的方法专利登记公告
专利名称：使用两块掩模版实现连续扫描对两图形曝光的方法
摘要：一种使用两块掩模版实现连续扫描对两图形曝光的方法，固定具有第一曝光图形的第一掩模版，调节具有第二曝光图形的第二掩模版，使两掩模版连接成一体，两块掩模版作为整体做长程扫描运动，完成第一曝光图形的曝光后，在扫描第一曝光图形与第二曝光图形的间距时掩模版进行变速运动实现在硅片上的两扫描图形间的正确距离，最后完成第二曝光图形的曝光。使用本发明的方法不需要对掩模版制造做任何改动，可以直接使用普通的掩模版，同时也减少了两次曝光技术所需要的时间。
专利类型：发明专利
专利号：CN200610025629.7
专利申请（专利权）人：上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹（集团）有限公司
专利发明（设计）人：姚峰英
主权项：1、一种使用两块掩模版实现连续扫描对两图形曝光的方法，其特征在于：固定具有第一曝光图形的第一掩模版，调节具有第二曝光图形的第二掩模版，使两掩模版连接成一体，两块掩模版作为整体做长程扫描运动，完成第一曝光图形的曝光后，在扫描第一曝光图形与第二曝光图形的间距时掩模版进行变速运动实现在硅片上的两扫描图形间的正确距离，最后完成第二曝光图形的曝光。
专利地区：上海
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