接近型曝光装置专利登记公告

专利名称：接近型曝光装置

摘要：接近型曝光装置。讨论了一种用于对准基板与掩模的装置和方法。在本发明的一个方面，所述装置包括：掩模台，其中该掩模台包括被构造成固定地支撑掩模的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；以及布置在基台中的至少一个引导单元，其与掩模固定台耦合，并且被构造成移动掩模固定台，以沿预定方向移动掩模。

专利类型：发明专利

专利号：CN200510132967.6

专利申请（专利权）人：LG.菲利浦LCD株式会社

专利发明（设计）人：李千洙;车相焕;申铉长

主权项：1、一种曝光装置，其包括：掩模台，其包括用于将掩模固定于其上的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；至少一个负载支撑单元，其将掩模固定台的负载分散给基台；至少一个引导单元，其被构造成移动掩模固定台至少一个支撑器，其支撑掩模台；以及至少一个驱动板，其被构造成移动其上将被转印掩模的图案的基板。

专利地区：韩国