利用三道掩膜制造液晶显示装置用下基板的方法专利登记公告

专利名称：利用三道掩膜制造液晶显示装置用下基板的方法

摘要：本发明公开了一种利用三道掩膜制作液晶显示装置用下基板的方法，其步骤包括在一基板上依序形成一图形化第一金属层、一绝缘层、一半导体层、以及一第二金属层；利用一次曝光显影工艺使第二金属层具有不相同厚度；于第二金属层上形成一平坦层并刻蚀此平坦层至部分第二金属层暴露出来；最后再形成一图形化的透明电极层于第二金属层上。本发明改善了现有技术的缺陷，仅需要三道掩膜工艺，即可制作液晶显示装置用下基板，减少工艺所需要使用的掩膜数目，由于曝光工程次数降低，故可以减少制造时间，增加产能，进而降低制造成本。

专利类型：发明专利

专利号：CN200610076368.1

专利申请（专利权）人：广辉电子股份有限公司

专利发明（设计）人：李奕纬;朱庆云

主权项：1.一种液晶显示装置用下基板的制造方法，包括以下步骤：(A)提供一基板；(B)于该基板上形成一图形化第一金属层、一绝缘层以及一半导体层，其中该图形化第一金属层位于该绝缘层及该基板之间；(C)于该半导体层上方形成一第二金属层；(D)于该第二金属层涂覆一光刻胶；(E)利用一次曝光显影工艺使该光刻胶具有第一厚度及第二厚度，且该第一厚度与该第二厚度不相同；(F)刻蚀该光刻胶以及该第二金属层，以形成图形化第二金属层，该图形化第二金属层具有第三厚度及第四厚度，且该第三厚度与该第四厚度不相同；(G)于该图形化第二金属层

专利地区：台湾