从电子器件衬底表面剥离并移除有机涂层材料的方法专利登记公告

专利名称：从电子器件衬底表面剥离并移除有机涂层材料的方法

摘要：这里描述了一种从大衬底(至少0.25m2)的暴露的表面移除含有有机物的材料的方法。该衬底可以包括电子器件。通过在溶剂中含有臭氧(O3)的剥离溶液来对暴露的表面进行处理，其中所述溶剂包括乙酸酐。用于形成剥离溶液的这种剥离溶剂可以包括乙酸酐与共溶剂的混合物，其中从由含有2到4个碳的碳酸盐、乙二醇二乙酸酯及其组合所组成的组中选择的该共溶剂。在一些情况下，剥离溶液可以仅含有乙酸酐和臭氧，其中臭氧浓度通常约为300ppm以上。

专利类型：发明专利

专利号：CN200780100923.2

专利申请（专利权）人：应用材料公司

专利发明（设计）人：史蒂文·维尔哈弗尔贝克

主权项：一种从大面积衬底的表面移除含有有机物的材料的方法，所述大面积衬底的有效直径或边的尺寸的长度超过0.5米，其中，所述方法包括将所述衬底的表面暴露到在溶剂中含有臭氧(O3)的剥离溶液中，其中臭氧在溶液中的浓度约为50ppm或以上，并且其中所述溶剂包括乙酸酐。

专利地区：美国