阴影式光罩结构及其制造方法专利登记公告

专利名称：阴影式光罩结构及其制造方法

摘要：本发明公开一种阴影式光罩结构，其包括透明基材、第一屏蔽层以及第二屏蔽层。其中，透明基材具有第一区域与第二区域，在该第一区域中形成有主要图案并且在该第二区域中形成有辅助图案；第一屏蔽层由第一屏蔽材料所构成，并且第一屏蔽层设置于透明基材的第一区域上；第二屏蔽层则由第二屏蔽材料所构成，并且第二屏蔽层设置于透明基材的第二区域上以及第一区域的第一屏蔽层上。因此，主要图案由第一屏蔽材料与第二屏蔽材料所构成，而辅助图案则由第二屏蔽材料所构成，并且上述的第一屏蔽层的光反射率低于第二屏蔽层的光反射率。同时，本发明也公开一种

专利类型：发明专利

专利号：CN200810173663.8

专利申请（专利权）人：翔准先进光罩股份有限公司

专利发明（设计）人：卢皓敏

主权项：一种阴影式光罩结构，其包括：一透明基材，其具有一第一区域与一第二区域；一第一屏蔽层，其由一第一屏蔽材料所构成，该第一屏蔽层设置在所述透明基材的所述第一区域上；以及一第二屏蔽层，其由一第二屏蔽材料所构成，该第二屏蔽层设置在所述透明基材的所述第二区域上与所述第一区域的所述第一屏蔽层上；其中，所述第一屏蔽层的光反射率低于所述第二屏蔽层的光反射率。

专利地区：中国