涂层专利登记公告
专利名称:涂层
摘要:描述了一种在基底上形成金属簇物质的均匀涂层的方法,该方法包括步骤:在基底上沉积无定形底料涂层;提供金属离子源来结合到该无定形涂层;和,在该底料涂层上,通过向其上施加还原性条件来产生金属簇。
专利类型:发明专利
专利号:CN200880107369.5
专利申请(专利权)人:史密夫及内修公开有限公司
专利发明(设计)人:B·格里纳
主权项:一种在基底上形成金属簇物质的均匀涂层的方法,该方法包括步骤:在基底上沉积无定形底料涂层;提供金属离子源来结合到该无定形涂层;和,在该底料涂层上,通过向其上施加还原性条件来产生金属簇。
专利地区:英国
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。