光致酸发生剂及光反应性组合物专利登记公告

专利名称：光致酸发生剂及光反应性组合物

摘要：本发明提供式(A1)、式(B1)、或式(C1)：(式中，R1a～R4a、R1b、R2b、R1c及R2c分别独立地表示可具有取代基的单环式碳环基、可具有取代基的缩合多环式碳环基或可具有取代基的单环式杂环基，R3b～R5b、R3c～R7c分别独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～4的烷氧基、酰基或羟基，X-表示无机酸离子或有机酸离子)所表示的二噻吩基硫醚二锍盐或苯硫基噻吩锍盐、含有其的光致酸发生剂、以及含有该光致酸发生剂及酸反应性化合物的光反应性组合物。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880125771.6

专利申请（专利权）人：住友精化株式会社

专利发明（设计）人：山本胜政;山口博史;铃木三千雄

主权项：式(A1)：[化1](式中，R1a～R4a分别独立地表示可具有取代基的单环式碳环基、可具有取代基的缩合多环式碳环基或可具有取代基的单环式杂环基，X??表示无机酸离子或有机酸离子)所表示的二噻吩基硫醚二锍盐。FPA00001186929500011.tif

专利地区：日本