真空测量装置控制系统及半导体加工装置专利登记公告

专利名称：真空测量装置控制系统及半导体加工装置

摘要：本发明公开了一种真空测量装置控制系统及半导体加工装置，真空测量装置控制系统包括真空测量装置、真空获得装置，真空测量装置通过电源供电，真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路；当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程，对于真空规由于环境因素波动引起的瞬间故障，能够通过复位过程排除，避免造成分子泵的频繁起停，增强了机台的可靠性和在线故障诊断性能。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910078368.9

专利申请（专利权）人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

专利发明（设计）人：武小娟

主权项：一种真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测量装置通过电源供电，其特征在于，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。

专利地区：北京