光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置专利登记公告

专利名称：光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置

摘要：光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置。本发明提供在LSI和TFT-LCD等制造中能够高精度地制造TFT等电子器件的图案的光掩模的制造方法，为此利用高度测定单元(12)来测定配置在描绘机的工作台(10)上的光掩模坯体(13)的表面形状变形，通过描绘数据生成单元(15)，针对由该表面形状的变形因素中在曝光装置中使用光掩模时消失的变形因素所引起的描绘偏差，校正设计描绘数据来得到预定描绘数据。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910209367.3

专利申请（专利权）人：HOYA株式会社

专利发明（设计）人：池边寿美;田中敏幸

主权项：一种光掩模制造方法，该光掩模制造方法包括描绘工序，在该描绘工序中，在具有透明基板、所述透明基板上的薄膜以及所述薄膜上的光致抗蚀剂膜的光掩模坯体上，使用描绘机根据预定描绘数据来照射能量束，由此描绘预定转印图案，其特征在于，计算所述描绘工序中所述光掩模坯体的膜面侧形状与对所述光掩模进行曝光时所述光掩模坯体的膜面侧形状之间的形状变化量，根据所述形状变化量来校正用于所述预定转印图案的设计描绘数据，由此得到所述预定描绘数据。

专利地区：日本