图案形成方法专利登记公告

专利名称：图案形成方法

摘要：本发明涉及一种显示器元件用图案形成方法，其用于形成可适用于剥离工序的凹割形状轮廓。本发明通过使用特定结构的聚合化合物来增加感光速度，并可在形成多层光刻胶层时容易形成凹割形状轮廓，从而容易适用于剥离工序。另外，还可以形成大厚度的图案，并且可以省略工艺中的蚀刻工序，从而可以实现工序简单化。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910209666.7

专利申请（专利权）人：株式会社东进世美肯

专利发明（设计）人：金东敏;李原荣;李纪万;金升起;崔基植;诸葛银;金贞元;卞哲基;申在浩;边滋勋

主权项：一种图案形成方法，其特征在于，包括以下步骤：a)在基板上形成第一光刻胶层；b)在所述第一光刻胶层上形成第二光刻胶层；以及c)对所述第一光刻胶层和第二光刻胶层进行曝光、显影，从而形成凹割形状的光刻胶图案，所述第一光刻胶层通过由以下化学式1所表示的化合物来形成，所述第二光刻胶层的感光速度比第一光刻胶层的感光速度慢，[化学式1]所述化学式1中，R1至R3分别独立地表示氢或碳原子数为1至10的烷基，n表示10至1000的整数。F2009102096667C0000011.tif

专利地区：韩国