用于可配置扫描架构的测试设计优化器专利登记公告

专利名称：用于可配置扫描架构的测试设计优化器

摘要：粗略地说，根据所考虑的电路设计来优化基于扫描的测试架构。在一个实施例中，形成多个候选测试设计。对于每一个候选测试设计来说，根据电路设计和候选测试设计而生成多个测试矢量，并且这些测试矢量优选是使用同一ATPG算法生成的，其中所述算法会在下游使用，以便生成用于制造集成电路器件的最终测试矢量。在这里为每一个候选测试设计都确定了故障覆盖率之类的测试协议质量量度，并且根据对这些测试协议质量量度所进行的比较来选择其中一个候选测试设计，以便在集成电路器件中加以实施。优选地，只有能被ATPG生成的完整测试矢量集合中的采样

专利类型：发明专利

专利号：CN200980000211.2

专利申请（专利权）人：新思科技有限公司

专利发明（设计）人：R·卡普尔;J·塞基阿;R·宇普鲁里;P·诺蒂雅斯;T·费尔南德斯;S·库尔卡尔尼;A·安巴兰

主权项：一种用于为集成电路设计形成基于扫描的测试设计的方法，包括以下步骤：为电路设计形成多个候选测试设计，其中包括根据电路设计来生成多个测试矢量；为每一个候选测试设计生成一个测试协议品质因数；以及根据对为每一个候选测试设计生成的测试协议品质因数的比较来选择其中一个候选测试设计，以便在集成电路器件中实施，其中生成多个测试矢量的步骤使用了预定的自动测试模式生成算法，以及其中为每一个候选测试设计生成测试协议品质因数的步骤包括以下步骤：仅使用如果预定的自动测试模式生成算法运行至结束将会生成的测试矢量的采样来确定用于每一个

专利地区：美国