完全超耐性、非常高扫描压缩扫描测试系统及技术专利登记公告

专利名称：完全超耐性、非常高扫描压缩扫描测试系统及技术

摘要：扫描测试以及扫描压缩是实现成本降低以及运送品质的关键。在更加复杂的设计中，新的瑕疵类型需要增加的压缩。然而，增加的未知(X)值密度减低了有效率的压缩。一扫描压缩方法可达到对于任何未知值的任何密度的非常高压缩以及完全涵盖率。所描述的技术可完全地并入所述的测试用设计(DFT)以及自动化测试型样产生(ATPG)流程中。比起其他方法，在工业设计上来自使用这些技术的结果展现了一致且可预测的优势。

专利类型：发明专利

专利号：CN200980000264.4

专利申请（专利权）人：新诺普系统公司

专利发明（设计）人：彼得·沃尔;约翰·A·威库考斯基;弗瑞德里克·J·纽费克斯

主权项：一种用于测试一设计的扫瞄测试系统，所述的设计于一集成电路(IC)中实施，所述的设计包含多个扫瞄链，所述的系统包含：一第一伪随机型样产生器(PRPG)处理链，用以接收一第一种子，以产生用于鉴定所述的设计的故障的型样，所述的型样应用于所述的多个扫瞄链；一第二PRPG处理链，用以接收一第二种子，以产生X-耐性(XTOL)控制位元，所述的XTOL控制位元决定所述的扫瞄链的一可观察性层级；以及一卸载区块，用以接收来自所述的多个扫瞄链的扫瞄输出以及所述的XTOL控制位元、提供一每位移的X-控制、以及产生测试输出以用于

专利地区：美国