正性作用的可光成像底部抗反射涂层专利登记公告

专利名称：正性作用的可光成像底部抗反射涂层

摘要：本发明涉及正性底部可光成像抗反射涂料组合物，其能在含水碱性显影剂中显影，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种具有发色团的重复单元以及一种具有羟基和/或羧基的重复单元，结构(7)的乙烯基醚封端交联剂，还任选，光致酸产生剂和/或酸和/或热致酸产生剂，其中结构(7)是，其中W选自(C1-C30)直链、支链或者环状的烷基组成部分，取代的或者未被取代的(C3-C40)脂环烃组成部分以及取代的或者未被取代的(C3-C40)环烷基亚烷基组成部分；R选自C1-C10直链或者支链亚烷基以及n＞2。本发明还

专利类型：发明专利

专利号：CN200980161858.3

专利申请（专利权）人：AZ电子材料美国公司

专利发明（设计）人：R·R·达梅尔;S·查克拉帕尼;M·帕德马纳班;宫崎真治;E·W·额;工藤隆范;A·D·迪奥赛斯;F·M·霍利亨

主权项：能够在含水碱性显影剂中显影的正性底部可光成像抗反射涂料组合物，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种具有发色团的重复单元以及一种具有羟基和/或羧基的重复单元，结构(7)的乙烯基醚封端交联剂，和任选地，光致酸产生剂；其中结构(7)是其中W选自(C1?C30)直链、支链或者环状烷基组成部分，取代的或者未被取代的(C3?C40)脂环烃组成部分以及取代的或者未被取代的(C3?C40)环烷基亚烷基组成部分；R选自C1?C10直链或者支链亚烷基以及n≥2。FDA0000151186170000011.

专利地区：美国