光谱纯度滤光片、光刻设备以及器件制造方法专利登记公告
专利名称：光谱纯度滤光片、光刻设备以及器件制造方法
摘要：本发明公开了一种光谱纯度滤光片，尤其是用在将EUV辐射用作投影束的光刻设备中。所述光谱纯度滤光片包括衬底内的多个孔。孔由壁限定，壁具有侧表面，所述侧表面相对于衬底的前表面的法线是倾斜的。
专利类型：发明专利
专利号：CN201080042251.6
专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司
专利发明（设计）人：A·亚库宁;V·班尼恩;M·凡赫彭;W·索尔;M·杰克
主权项：一种光谱纯度滤光片，具有多个孔，所述滤光片包括：衬底，包括第一表面；和多个壁，所述壁具有限定通过衬底的多个孔的侧表面，其中所述侧表面相对于第一表面的法线是倾斜的。
专利地区：荷兰
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