源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法专利登记公告

专利名称：源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法

摘要：本发明公开了一种EUV光刻设备(100)，包括：源收集器设备(SO)，其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体(210)来产生极紫外辐射。所述源收集器设备(SO)包括腔(310)，所述腔(310)与腔外部的引导通路(320)流体连通。用于循环缓冲气体的泵(BPS)是引导通路(320)的一部分，并提供闭合回路缓冲气体流(222)。流动通过引导通路(320)的气体穿过气体分解器(TD1)，其中燃料材料和缓冲气体材料的化合物被分解，使得分解的缓冲气体材料可以被供给回至闭合回路流动路径(222)中。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080042458.3

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司;赛默股份公司

专利发明（设计）人：E·鲁普斯特拉;V·班尼恩;G·斯温克尔斯;S·皮克尔德;D·兰贝特斯基;U·斯坦姆;W·N·帕特劳

主权项：一种用于极紫外辐射光刻设备的源收集器设备，其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体来产生极紫外辐射，所述源收集器设备包括：包围结构，构造并布置成限定在包围结构内的缓冲气体的闭合回路流动路径；泵，构造并布置成驱使缓冲气体通过所述闭合回路流动路径；和气体分解器，构造并布置成分解燃料材料和缓冲气体材料的化合物，并将所述缓冲气体材料的至少一部分供给回至闭合回路流动路径中。

专利地区：荷兰