修复压电构件中的缺陷专利登记公告

专利名称：修复压电构件中的缺陷

摘要：将含有溶剂和单体的溶液（10）涂布到压电构件（12）的表面（16）的一个区域上，以便所述溶液（10）流入一个或多个缺陷（18）中。去除至少一部分溶剂，以便在缺陷（18）中形成单体膜（20），并在缺陷（18）中聚合所述单体膜（20），从而在缺陷（18）中形成聚合物膜（22）。

专利类型：发明专利

专利号：CN200980161912.4

专利申请（专利权）人：惠普发展公司，有限责任合伙企业

专利发明（设计）人：P.马迪洛维奇;H.A.范德普拉斯;K.M.乌尔默

主权项：?一种修复压电构件（12）中的缺陷的方法，包括：提供含有溶剂和单体的溶液（10）；将所述溶液（10）涂布到所述压电构件（12）的表面（16）的一个区域上，使得所述溶液（10）流入一个或多个缺陷（18）中；去除至少一部分所述溶剂，以在所述缺陷（18）中形成单体膜（20）；以及在所述缺陷（18）中使所述单体膜（20）聚合，以在所述缺陷（18）中形成聚合物膜（22）。

专利地区：美国