浸渍型分离膜装置的洗涤方法、及浸渍型分离膜装置的洗涤系统专利登记公告

专利名称：浸渍型分离膜装置的洗涤方法、及浸渍型分离膜装置的洗涤系统

摘要：提供能够简便、且可靠地洗涤附着在分离膜装置的膜表面的污染物质的浸渍型分离膜装置的洗涤方法、及浸渍型分离膜装置的洗涤系统。通过在将分离膜装置3设置在槽2内的状态下从分离膜装置3的过滤水侧注入试剂溶液从而进行洗涤，由此能够通过简单的操作洗涤分离膜装置3的膜表面的除去对象物而不需要大量的化学试剂。此外，设过滤时的洗涤开始前的膜间压差为X(kPa)、设逆压水洗涤时注入试剂溶液时的膜间压差为Y(kPa)时，按照满足-0.375X+30≤Y≤0.5X+80的关系的方式注入试剂溶液。即使是析出的除去对象物牢固的部分，试

专利类型：发明专利

专利号：CN200980162056.4

专利申请（专利权）人：旭化成化学株式会社

专利发明（设计）人：冈村大祐

主权项：一种浸渍型分离膜装置的洗涤方法，其特征在于，其是设置在充满被过滤液的槽内进行所述被过滤液的膜分离的浸渍型分离膜装置的洗涤方法，设洗涤开始前的膜间压差为X(kPa)、设从所述分离膜装置的过滤水侧注入试剂溶液时的初期膜间压差为Y(kPa)时，以满足下述式(1)的初期膜间压差注入所述试剂溶液，?0.375X+30≤Y≤0.5X+80...(1)其中，0＜X＜80。

专利地区：日本