用于Western印迹的纳米纤维膜及其制备方法专利登记公告

专利名称：用于Western印迹的纳米纤维膜及其制备方法

摘要：本发明涉及用于Western印迹的纳米纤维膜及其制备方法，例如，该用于Western印迹的纳米纤维膜的三维开放式孔通道结构的平均孔径为0.1μm至1.0μm且厚度为30μm至200μm，该用于Western印迹的膜通过使由电纺丝获得的平均纤维直径为50nm至1000nm的纳米纤维经过热板压延过程而制备。所述方法包括如下步骤：将疏水性材料溶解于溶剂中以制备纺丝溶液；使该纺丝溶液经过纺丝过程以获得疏水性聚合物纳米纤维网；以及压延获得的纳米纤维网以获得用于Western印迹的膜。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080043816.2

专利申请（专利权）人：阿莫麦迪有限公司;阿莫绿色技术有限公司

专利发明（设计）人：鞠重基;赵纪云;金灿;徐尚哲;金哲贤;徐寅踊;李承勳;金允譓;朴奏映

主权项：制备用于Western印迹的膜的方法，所述方法包括如下步骤：将疏水性聚合物溶解于溶剂中以制备纺丝溶液；使所述纺丝溶液经过纺丝过程以获得疏水性聚合物纳米纤维网；以及将获得的所述纳米纤维网压延以获得用于Western印迹的膜。

专利地区：韩国