纳米锆酸镧外延层与Ni-W衬底晶体取向匹配关系的电子背散射衍射(EBSD)测试方法专利登记公告

专利名称：纳米锆酸镧外延层与Ni-W衬底晶体取向匹配关系的电子背散射衍射(EBSD)测试方法

摘要：纳米锆酸镧外延层与Ni-W衬底晶体取向匹配关系测试方法，属于超导薄膜性能测试技术领域，其特征在于，在热场发射扫描电镜SEM-电子背散射衍射仪EBSD分析测试系统中，调整二次电子放大倍率、扫描步进距离，使得能在加速电压最低为6kV条件下，用5nA的入射电子流，实现在一幅极图中，同时显示锆酸镧外延层和Ni-W衬底的织构，还在一幅菊池花样中，同时包含锆酸镧外延层和Ni-W衬底两相的菊池花样，在此基础上可用商用EBSD分析软件，测量出锆酸镧外延层与Ni-W衬底在面内和外延生长方向(c-轴)的晶体取向匹配关系，具有

专利类型：发明专利

专利号：CN201010108670.7

专利申请（专利权）人：北京工业大学

专利发明（设计）人：吉元;王丽;张隐奇;卫斌

主权项：纳米锆酸镧外延层与Ni-W衬底晶体取向匹配关系测试方法，其特征在于，所述方法是在热场发射扫描电镜SEM-电子背散射衍射仪分析测试系统中依次按以下步骤实现的：步骤(1)把沉积在Ni-5at％W衬底上的锆酸镧LZO样品固定在热场发射扫描电镜SEM样品室内一个倾斜70°的样品台上，对所述样品室抽真空；步骤(2)当所述样品室的真空度达到9.63×10-5Pa后，通过电子背散射衍射仪EBSD的探头控制单元，把所述电子背散射衍射仪EBSD的探测器伸入到所述样品室中；步骤(3)给所述热场发射扫描电镜SEM的电子枪施加最

专利地区：北京