液体排出头用基板的制造方法专利登记公告

专利名称：液体排出头用基板的制造方法

摘要：一种液体排出头用基板的制造方法，该基板是具有第一面和与第一面相反的第二面的硅基板，该制造方法包括如下步骤：在硅基板的第二面上提供如下的层：当暴露于硅的蚀刻剂时，该层具有比硅的蚀刻速率低的蚀刻速率；部分地去除该层，以使硅基板的第二面的一部分露出，其中，露出部分包围该层的至少一部分；以及使用硅的蚀刻剂对该层和硅基板的第二面的所述露出部分进行湿法蚀刻，以形成从硅基板的第二面延伸到第一面的液体供给口。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010122999.9

专利申请（专利权）人：佳能株式会社

专利发明（设计）人：松本圭司;小山修司;阿保弘幸;渡边启治

主权项：一种液体排出头用基板的制造方法，所述基板是具有第一面和与所述第一面相反的第二面的硅基板，所述制造方法包括如下步骤：在所述硅基板的所述第二面上提供如下的层：当暴露于硅的蚀刻剂时，所述层具有比硅的蚀刻速率低的蚀刻速率；部分地去除所述层，以使所述硅基板的所述第二面的一部分露出，其中，露出部分包围所述层的至少一部分；以及使用所述硅的蚀刻剂对所述层和所述硅基板的所述第二面的所述露出部分进行湿法蚀刻，以形成从所述硅基板的所述第二面延伸到所述第一面的液体供给口(13)。

专利地区：日本