沉积掩模专利登记公告

专利名称：沉积掩模

摘要：本发明公开了一种沉积掩模，所述沉积掩模包括掩模板以及支撑掩模板的周边的框架。所述框架包括附于掩模板的接触表面以及面对掩模板并与之隔开的非接触表面，非接触表面从接触表面延伸至形成在框架的中心的开口。非接触表面可以相对于掩模板形成锐角。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010123804.2

专利申请（专利权）人：三星移动显示器株式会社

专利发明（设计）人：李相信;高政佑;姜泽教;洪承柱

主权项：一种沉积掩模，所述沉积掩模包括掩模板以及支撑掩模板的周边的框架，所述框架具有：固定于掩模板的接触表面；面对掩模板并与掩模板隔开的非接触表面，所述非接触表面被设置在所述接触表面和形成在框架中心的开口之间。

专利地区：韩国

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