显影均匀性调试方法专利登记公告

专利名称：显影均匀性调试方法

摘要：本发明提供了一种显影均匀性调试方法，至少包括如下步骤：片内线宽均匀性异常或新设备调试、设备或显影程序调整、涂胶E0曝光显影、聚光灯下宏观判断显影均匀性、涂胶线宽曝光显影及扫描电镜测试圆片线宽，其中，若聚光灯下宏观判断显影均匀性时发现显影均匀性不满足要求，则返回重新进行设备或显影程序调整。相较于现有技术，本发明所述的显影均匀性调试方法根据涂胶E0曝光显影后圆片各处衬底的颜色差异来判断圆片上残留的光刻胶厚度是否一致，进而判定圆片内的显影均匀性是否一致，使得显影均匀性的调试方法更为简单、快速及方便。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010578042.5

专利申请（专利权）人：无锡华润上华科技有限公司

专利发明（设计）人：黄玮

主权项：一种显影均匀性调试方法，至少包括如下步骤：片内线宽均匀性异常或新设备调试、设备或显影程序调整、涂胶阀值能量曝光显影、聚光灯下宏观判断显影均匀性、涂胶线宽曝光显影及扫描电镜测试圆片线宽，其中，若聚光灯下宏观判断显影均匀性时发现显影均匀性不满足要求，则返回重新进行设备或显影程序调整。

专利地区：江苏