线宽测试结构专利登记公告
专利名称：线宽测试结构
摘要：本发明关于一种线宽测试结构，其包括当前层及位于当前层下方的前层，前层形成有台阶，其中当前层的光刻图形设计成其中心位于前层的台阶处。本发明利用线宽测试结构的二次电子成像原理，测试线宽的同时测试套刻叠对偏差。
专利类型：发明专利
专利号：CN201010578124.X
专利申请（专利权）人：无锡华润上华科技有限公司
专利发明（设计）人：黄玮
主权项：一种线宽测试结构，其包括：当前层及位于当前层下方的前层；其特征在于：前层形成有台阶，其中当前层的光刻图形设计成其中心位于前层的台阶处。
专利地区：江苏
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