光刻机的垂向控制装置及方法专利登记公告

专利名称：光刻机的垂向控制装置及方法

摘要：一种光刻机的垂向控制方法，包括如下步骤：a.由调焦调平传感器测量初始位置下基底上的测量点的位置信息，由垂向测量传感器测量初始位置下工件台的位置信息；b.根据上述位置信息计算得到将基底上的测量点调节至目标平面内的垂向设定值；c.以所述垂向设定值为闭环控制的输入值，以垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值，对工件台的位置进行闭环控制，从而将基底上的测量点调到目标平面。根据本发明的垂向控制方法，调焦调平传感器无需参与到闭环控制中，可大大节省时间并降低闭环机制的复杂度。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010592409.9

专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司

专利发明（设计）人：王献英;毛方林;段立峰

主权项：一种光刻机的垂向控制装置，用于对工件台进行垂向移位，使所述工件台承载的基底上的测量点移动至一目标平面内，其特征在于，所述垂向控制装置包括调焦调平传感器、垂向测量传感器、控制单元及执行机构，其中，所述调焦调平传感器测量初始位置下所述基底上的测量点的位置信息，作为调焦调平传感器初始测量值输出至所述控制单元；所述垂向测量传感器测量初始位置下所述工件台的位置信息，作为垂向传感器初始测量值输出至所述控制单元；所述控制单元根据所述调焦调平传感器初始测量值和所述垂向传感器初始测量值，计算得到将所述基底上的测量点调节至所

专利地区：上海