一种气相沉积设备专利登记公告

专利名称：一种气相沉积设备

摘要：本发明提供一种气相沉积设备，其包括工艺腔室和设置于工艺腔室外部的感应加热线圈。其中，上述感应加热线圈包括至少2个串联在一起的且螺旋方向一致的子螺旋线圈，相邻的子螺旋线圈的间距可调。通过调节相邻的子螺旋线圈的间距而对工艺腔室内的温度分布进行调节，从而使工艺腔室内的温度分布趋于均匀，进而有利于获得均匀的工艺结果。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010599935.8

专利申请（专利权）人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

专利发明（设计）人：张秀川

主权项：一种气相沉积设备，包括工艺腔室和设置于所述工艺腔室外部的感应加热线圈，其特征在于，所述感应加热线圈包括至少2个串联在一起的且螺旋方向一致的子螺旋线圈，相邻的子螺旋线圈的间距可调，通过调节相邻的子螺旋线圈的间距而对所述工艺腔室内的温度分布进行调节。

专利地区：北京