用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法专利登记公告

专利名称：用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法

摘要：本发明公开一种用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法，包括：步骤一、上载包含测试孔的测试掩模，用光电探测器测量参考光强；步骤二、光电探测器探测所述测试掩模，当探测到参考光强的60％-100％时，以该点作为确定边界扫描的起始位置点；步骤三、光电探测器分别探测所述测试孔的边界，并以探测到的参考光强的50％点作为边界点；步骤四、根据所述边界点计算所述测试孔的中心点；步骤五、根据所述测试孔的中心点，对所述测试孔进行步进光强采样以完成光瞳测量。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010600842.2

专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司

专利发明（设计）人：宋平;马明英

主权项：一种用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法，包括：步骤一、上载包含测试孔的测试掩模，所述照明系统发出参考光照射所述掩模；步骤二、所述光电探测器探测所述参考光强，当探测到所述掩模上的测试孔内的一点的参考光的光强大于等于第一预定值时，以该点作为所述小孔边界扫描的起始点；步骤三、所述光电探测器从所述起始点开始分别探测所述测试孔的边界，当探测到的所述参考光强为第二预定值时以所述参考光强为所述第二预定值的点作为边界点；步骤四、根据所述边界点计算所述测试孔的中心点；以及步骤五、根据所述测试孔的中心点，所述光电探测器对所

专利地区：上海