阵列基板及其制造方法和液晶显示器专利登记公告

专利名称：阵列基板及其制造方法和液晶显示器

摘要：本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和液晶显示器。其中，阵列基板的制造方法，包括在衬底基板上形成导电图案和绝缘层的步骤，所述导电图案至少包括栅线、栅电极、有源层、源电极、漏电极、数据线和像素电极，其中，形成所述栅线、栅电极和像素电极的步骤具体包括：在衬底基板上依次沉积透明导电薄膜和栅金属薄膜；通过构图工艺刻蚀所述透明导电薄膜和所述栅金属薄膜形成包括栅线的图案，且刻蚀所述栅金属薄膜形成包括栅电极和像素电极的图案。本发明栅电极与像素电极的为相同的透明导电薄膜，栅电极厚度低、与源漏电极的重叠面积小，不同像素单元

专利类型：发明专利

专利号：CN201010601911.1

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：刘翔;薛建设

主权项：一种阵列基板的制造方法，包括在衬底基板上形成导电图案和绝缘层的步骤，所述导电图案至少包括栅线、栅电极、有源层、源电极、漏电极、数据线和像素电极，其特征在于，形成所述栅线、栅电极和像素电极的步骤具体包括：在衬底基板上依次沉积透明导电薄膜和栅金属薄膜；采用双色调掩膜板，通过构图工艺刻蚀所述透明导电薄膜和所述栅金属薄膜形成包括栅线的图案，且刻蚀所述栅金属薄膜形成包括栅电极和像素电极的图案。

专利地区：北京