研磨垫清洗方法专利登记公告

专利名称：研磨垫清洗方法

摘要：一种研磨垫清洗方法，包括：提供待化学机械研磨的部件，所述待化学机械研磨部件包括基底以及形成于基底上的介质层，所述介质层中形成有开口，GST材料填满所述开口并覆盖所述介质层；对所述GST材料进行化学机械研磨；移走化学机械研磨后的部件，并用去离子水冲洗研磨垫，去除部分化学机械研磨副产品；采用碱性或者酸性溶液清洗研磨垫，溶解不溶于去离子水的化学机械研磨副产品，形成新溶液；再次采用去离子水冲洗研磨垫，去除残留在研磨垫表面的新溶液；旋转研磨盘，去除残留在研磨垫表面的去离子水。本发明所提供的研磨垫清洗方法可以避免有残

专利类型：发明专利

专利号：CN201010604743.1

专利申请（专利权）人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

专利发明（设计）人：蒋莉;黎铭琦

主权项：一种研磨垫清洗方法，其特征在于，包括：采用去离子水冲洗研磨垫；采用去离子水冲洗研磨垫后，采用酸性或碱性溶液清洗所述研磨垫；采用酸性或者碱性溶液清洗所述研磨垫后，采用去离子水冲洗所述研磨垫；去除残留在研磨垫表面的去离子水。

专利地区：上海