PVD设备及采用该PVD设备进行晶片处理的方法专利登记公告

专利名称：PVD设备及采用该PVD设备进行晶片处理的方法

摘要：本发明提出了一种PVD设备，包括：大气传输系统；至少两个负载锁闭器；传输腔室；与所述传输腔室相连并相通的至少四组反应腔室，每组反应腔室至少包括两个彼此相邻且功能相同的反应腔室；真空机械手，真空机械手设置在所述传输腔室之中，且真空机械手具有至少两个平行的机械臂；以及机械手控制器，且机械手控制器控制真空机械手从至少两个负载锁闭器中同时抓取相应的至少两个晶片，并将至少两个晶片按照预设的顺序依次放入至少四组反应腔室以对至少两个晶片进行至少第一至第四处理。本发明实施例可同时对至少两个晶片进行处理，从而增加了PVD设

专利类型：发明专利

专利号：CN201010606451.1

专利申请（专利权）人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

专利发明（设计）人：夏威;宗令蓓

主权项：一种PVD设备，其特征在于，包括：大气传输系统；至少两个负载锁闭器，所述至少两个负载锁闭器与所述大气传输系统相连并相通；传输腔室，所述传输腔室与所述至少两个负载锁闭器相连并相通；与所述传输腔室相连并相通的至少四组反应腔室，每组反应腔室至少包括两个彼此相邻且功能相同的反应腔室；真空机械手，所述真空机械手设置在所述传输腔室之中，且所述真空机械手具有至少两个平行的机械臂，所述至少两个平行的机械臂用于同时将至少两个晶片对应地放入每组反应腔室中的所述至少两个反应腔室内，以及从所述每组反应腔室中的所述至少两个反应腔室

专利地区：北京