保证膜层沉积质量的方法、膜层沉积设备的每日监控方法专利登记公告

专利名称：保证膜层沉积质量的方法、膜层沉积设备的每日监控方法

摘要：本发明提供了一种保证膜层沉积质量的方法，包括每天进行对膜层沉积设备进行气密性检测的步骤；其中，所述气密性检测的步骤包括：对所述膜层沉积设备进行抽真空；抽真空结束后的给定时间段内，使所述膜层沉积设备处于气密状态，检测膜层沉积设备的气压变化状况，记录下该时间段内的气压最大值；若所述气压最大值大于预定值，则将所述膜层沉积设备归为需维修设备。本发明还提供了一种膜层沉积设备的每日监控方法，所述每日监控方法包含上述的气密性检测的步骤。与现有技术相比，本发明改善了沉积膜层的质量，提高了产品合格率，且简单易行，几乎不需增

专利类型：发明专利

专利号：CN201210024584.7

专利申请（专利权）人：上海宏力半导体制造有限公司

专利发明（设计）人：赵高辉;李春雷;牟善勇;张永刚

主权项：一种保证膜层沉积质量的方法，其特征在于，包括每天进行对膜层沉积设备进行气密性检测的步骤；其中，所述气密性检测的步骤包括：对所述膜层沉积设备进行抽真空；抽真空结束后的给定时间段内，使所述膜层沉积设备处于气密状态，检测膜层沉积设备的气压变化状况，记录下该时间段内的气压最大值；若所述气压最大值大于预定值，则将所述膜层沉积设备归为需维修设备。

专利地区：上海