一种抛光硅和铜的化学机械平坦化浆料专利登记公告

专利名称：一种抛光硅和铜的化学机械平坦化浆料

摘要：本发明提供一种抛光硅和铜的化学机械平坦化浆料，包括研磨颗粒、氧化剂、碱类抛光速率调节剂，还可以包括pH值调节剂、表面活性剂、稳定剂、腐蚀抑制剂、杀菌剂等以及抛光速率调节剂。本发明化学机械平坦化浆料可同时获得较高的硅、铜的去除速率，调节化学机械抛光时对铜及硅的抛光选择比并控制金属材料的局部或整体腐蚀效果，基本无衬底表面缺陷、划伤、粘污和其他残留污染物。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010609130.7

专利申请（专利权）人：安集微电子（上海）有限公司

专利发明（设计）人：徐春

主权项：一种抛光硅和铜的化学机械平坦化浆料，其特征在于，包括研磨颗粒、氧化剂、载体、和碱性抛光速率调节剂，所述碱性抛光速率调节剂为能够与硅以及铜表面反应形成易溶于载体的化合物的碱性物质。

专利地区：上海