一种化学机械抛光液专利登记公告

专利名称：一种化学机械抛光液

摘要：本发明揭示一种新的用于多晶硅的化学机械抛光液，这种抛光液由研磨颗粒、至少一种唑类化合物和至少一种磷酸酯类表面活性剂组成，这种抛光液可调节多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010604022.0

专利申请（专利权）人：安集微电子(上海)有限公司

专利发明（设计）人：荆建芬;蔡鑫元;张建

主权项：一种化学机械抛光液，其包含：(a)研磨颗粒，(b)唑类化合物，(c)磷酸酯类表面活性剂，(d)水。

专利地区：上海