清洗装置专利登记公告

专利名称：清洗装置

摘要：本发明公开了一种清洗装置，涉及清洗技术领域，提高了清洗液利用率，所述清洗装置包括清洗槽和过滤系统，清洗槽顶部溢出口溢出的液体流向过滤系统的入水端，并且通过过滤系统的出水端流入清洗槽；和/或清洗槽底部为漏斗状，并在漏斗状底部的尖端设置有排水口，清洗槽底部排水口流出的液体流向过滤系统的入水端，并且通过过滤系统的出水端流入清洗槽；本发明实施例可以应用于各种清洗设备，主要应用于液晶显示装置的背光源框架的清洗设备。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010611765.0

专利申请（专利权）人：北京京东方光电科技有限公司

专利发明（设计）人：权宁万

主权项：一种清洗装置，包括清洗槽，其特征在于：还包括过滤系统，所述清洗槽顶部溢出口溢出的液体流向所述过滤系统的入水端，并且通过所述过滤系统的出水端流入所述清洗槽；和/或所述清洗槽底部为漏斗状，并在所述漏斗状底部的尖端设置有排水口，所述清洗槽底部排水口流出的液体流向所述过滤系统的入水端，并且通过所述过滤系统的出水端流入所述清洗槽。

专利地区：北京