光刻对准系统中对对准位置进行修正的方法专利登记公告

专利名称：光刻对准系统中对对准位置进行修正的方法

摘要：一种基于双光源多级次的对准系统中不同尺寸对准标记的对准位置进行修正的方法，包括如下步骤：a.设置一个基准标记和两个对准标记，使对准标记与基准标记在水平向或垂向对齐；b.获得两种对准标记在各级次衍射光的位置信息；c.根据所述位置信息获得各级次偏差值；d.根据所述各级次偏差值，对所选级次进行位置修正，获得最终对准位置。本发明基于双光源多级次对准系统的对准修正方法不但可以降低不同尺寸对准标记的位置偏差值，获得更精确的对准位置，而且可减小不同尺寸对准标记交叉使用对对准位置的影响，增强工艺适应性。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010619061.8

专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司

专利发明（设计）人：韩悦

主权项：一种基于双光源多级次的对准系统中对不同尺寸对准标记的对准位置进行修正的方法，包括如下步骤：a.设置一基准标记，对应基准水平向坐标，及基准垂向坐标；b.设置第一对准标记，对应第一对准水平向坐标，及第一对准垂向坐标，所述第一对准水平向坐标与上述基准水平向坐标相同，设置第二对准标记，对应第二对准水平向坐标，及第二对准垂向坐标，所述第二对准垂向坐标与上述基准垂向坐标相同；c.获得所述基准标记，第一对准标记，及第二对准标记在各级次衍射光的位置信息；d.根据上述步骤获得的所述位置信息，获得各级次偏差值；e.选用上述第

专利地区：上海