靶-背衬板组装体专利登记公告

专利名称：靶-背衬板组装体

摘要：本发明涉及一种靶-背衬板组装体，用于磁控溅射，其特征在于，靶的侵蚀面与配置于靶的背面的磁铁以及与靶相对的衬底面的距离各自恒定，该靶以使由于溅射而受到侵蚀的部位增厚的方式在背衬板面侧具备使厚度产生变化的凹凸形状，并且在背衬板与具有凹凸形状的靶间的靶的薄部具备包含导电性材料的垫片。本发明提供可以在靶的整个溅射过程中使膜的均匀性(膜厚的均匀性)良好、并且靶的寿命长的高使用效率靶、靶的制造方法以及靶-背衬板组装体。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080032231.0

专利申请（专利权）人：吉坤日矿日石金属株式会社

专利发明（设计）人：熊原吉一

主权项：一种靶?背衬板组装体，用于磁控溅射，其特征在于，靶的侵蚀面与配置于靶的背面的磁铁以及与靶相对的衬底面的距离各自恒定，该靶以使由于溅射而受到侵蚀的部位增厚的方式在背衬板面侧具备使厚度产生变化的凹凸形状，并且在背衬板与具有凹凸形状的靶间的靶的薄部具备包含导电性材料的垫片。

专利地区：日本