使用法拉第探针的罩幕状态监控专利登记公告

专利名称：使用法拉第探针的罩幕状态监控

摘要：一种离子植入机，其中离子电流测量装置配置于罩幕的后方且与靶材基板的表面共平面，有如该靶材基板位于平台上。离子电流测量装置平移而跨越离子束。经由罩幕的多个孔径而引导的离子束的电流利用离子电流测量装置予以测量。以此方式，可根据离子电流测量装置所测量的离子电流轮廓来测定罩幕相对于离子束的位置以及罩幕的情况。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080032799.2

专利申请（专利权）人：瓦里安半导体设备公司

专利发明（设计）人：班杰明·B·里欧登;尼可拉斯·P·T·贝特曼;威廉·T·维弗;罗素·J·洛

主权项：一种离子植入机的罩幕对准方法，包括：引导离子束经由罩幕的多个孔径以朝向用以支撑靶材基板的平台；配置离子电流测量装置于所述罩幕的后方且与所述靶材基板处于实质上共平面的关系，有如所述基板位于所述平台上；平移所述离子电流测量装置而跨越所述离子束；当所述离子电流测量装置平移而跨越所述离子束时记录其位置；在记录位置利用所述离子电流测量装置测量经由所述罩幕的所述多个孔径所引导的所述离子束的电流；产生电流讯号以响应于在每一个所述记录位置由所述离子电流测量装置测量的所述离子束的电流；传送所述电流讯号到控制器；以及藉由所述

专利地区：美国