纳米粒子的产生专利登记公告

专利名称：纳米粒子的产生

摘要：已经发现脉冲DC电源出乎意料地有益于用于生成纳米粒子的溅射沉积的用途。沉积率提高了，并且可以调节粒子尺寸以使其大约以特定值而簇生。因此，公开了一种溅射沉积的方法，包括步骤：提供磁控管、溅射靶、和用于所述磁控管的AC电源或脉冲DC电源；将粒子从所述溅射靶溅射到包含惰性气体的腔室中，使得粒子聚结成为纳米粒子；和控制所述AC电源或所述脉冲DC电源的频率以取得多个频率值中的一个，每个频率值对应于所述纳米粒子的一个对应的尺寸分布。电源频率优选的在75kHz到150kHz之间，因为这看来可以得到最佳结果。还公开了用于

专利类型：发明专利

专利号：CN201080047189.X

专利申请（专利权）人：曼蒂斯沉积物有限公司

专利发明（设计）人：基恩·阿利斯泰尔

主权项：一种产生纳米粒子的方法，包括步骤：提供磁控管、溅射靶、和用于所述磁控管的AC电源或脉冲DC电源；将粒子从所述溅射靶溅射到包含惰性气体的腔室中，使得粒子聚结成为纳米粒子；和控制所述AC电源或所述脉冲DC电源的频率以取得多个频率值中的一个，每个频率值对应于所述纳米粒子的一个对应的尺寸分布。

专利地区：英国