氮气注入设备专利登记公告

专利名称：氮气注入设备

摘要：本发明涉及用于LCD制造设备的半导体装置的氮气注入装置，其可以轻易制造，因此可降低生产成本，并且使一氮气注入方向对应反应副产品的流向，因此可有效地注入氮气而不会干扰反应副产品的流动。该氮气注入装置包含一对具有凸缘的凸缘管，一沿着耦接在一起的凸缘管的其中之一的内壁耦接的环形注入喷嘴，以供应氮气至这些凸缘管内；以及一连接至该注入喷嘴以供应氮气的氮气供应线。该注入喷嘴的内部具有一孔，用以使一圆周方向供应的氮气流动，以及多个与该孔连通的注入孔，用以将氮气供应至这些凸缘管内。这些注入孔形成于自这些凸缘管的内表面突出

专利类型：发明专利

专利号：CN201080035368.1

专利申请（专利权）人：李承龙

专利发明（设计）人：李承龙

主权项：一种氮气注入装置，包含：一对凸缘管，每一凸缘管具有一凸缘，用以连接一使副产品气体可经由其运送的管；一以一环形沿着所述凸缘管的壁耦接于所述一对凸缘管之间的注入喷嘴，用以供应氮气至所述凸缘管内；以及一连接至所述注入喷嘴以供应氮气的氮气供应线，其中，所述注入喷嘴具有一沿着圆周方向限定的孔，使氮气能够移动，所述注入喷嘴包括多个与所述孔连通的注入孔，用以使供应的氮气可被注入至所述凸缘管内，以及所述注入孔形成于自所述凸缘管的一内表面突出的位置，以将氮气注入与反应副产品的流动方向相同的方向。

专利地区：韩国