气体供给系统专利登记公告

专利名称：气体供给系统

摘要：氟气发生系统具有多个氟气供给系统以及控制装置。各氟气供给系统含有氟气产生装置。各氟气供给系统与CVD装置组连接。氟气产生装置包含氟气产生部以及缓冲容器。配管上夹设开闭阀。配管的另一端部分支为多个配管。各配管与CVD装置连接。相邻氟气供给系统的配管借助配管相互连接。各配管上夹设有开闭阀。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080039189.5

专利申请（专利权）人：东洋炭素株式会社

专利发明（设计）人：吉本修

主权项：一种气体供给系统，对进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体，具有：产生气体的多个第一气体产生装置；多个第一配管，分别与上述多个第一气体产生装置连接，用于将由上述多个第一气体产生装置产生的气体供给至上述多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于上述多个第一配管，用于开闭流路；第二配管，连接于各第一配管与其他的第一配管之间；第二开闭部，设置于上述第二配管，用于开闭流路。

专利地区：日本