用于束处理系统的气体传输专利登记公告

专利名称：用于束处理系统的气体传输

摘要：从多种气体源进入到束系统的样品腔中的气体流由用于每种气体源的循环阀控制，所述样品腔中的气体压力由阀打开的相对时间以及阀的上游压力确定。设置在真空腔内部的气体阀允许在截止气体方面快速响应。在一些优选的实施方式中，前体气体由容器中的固态或液态材料被供应，所述容器在使用时仍保持在所述真空系统外部并且被容易地连接到所述气体注入系统或从所述气体注入系统断开而不存在显著的泄漏。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080051642.4

专利申请（专利权）人：FEI公司

专利发明（设计）人：C.D.钱德勒;S.兰多尔夫;G.哈蒂根

主权项：一种气体注入系统，所述气体注入系统用于将多种处理气体提供到微束处理系统，微束处理系统具有带受控环境的样品腔，所述气体注入系统包括：用于提供多种处理气体的多种气体源；流率控制阀，所述流率控制阀与所述多种气体源的每一种相关联并且设置在所述样品腔外部以调节来自相应气体源的气体的流率；截止阀，所述截止阀与所述多种气体源的每一种相关联并且设置在所述真空腔内部；一组第一气体导管，每个第一气体导管将来自流率控制阀之一的气体引导到相应截止阀；以及一组第二气体导管，每个第二气体导管将来自所述相应截止阀的气体引导到样品腔环境

专利地区：美国