将原子层沉积涂层涂覆到多孔非陶瓷基底上的方法专利登记公告

专利名称：将原子层沉积涂层涂覆到多孔非陶瓷基底上的方法

摘要：本发明公开了一种将保角涂层沉积在多孔非陶瓷基底上的方法，所述方法需要反应性气体流动经过所述基底从而在其后留下保角涂层。所述方法可用于在所述基底的内孔上留下亲水表面，即使当所述基底是天然疏水性的，例如烯属的材料。所述方法可用于卷对卷法方法中，或用于批量方法中。在后一种情况的一些方便的实施例中，批量反应器和适形涂覆的基底或多个基底可一起成为最终产品的组件，所述组件例如分别为过滤器主体和过滤器元件。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080042180.X

专利申请（专利权）人：3M创新有限公司

专利发明（设计）人：比尔·H·道奇

主权项：一种用于在多孔非陶瓷基底上沉积保角涂层的方法，其包括以下步骤：提供具有入口和出口的反应器；将至少一个多孔非陶瓷基底的至少一部分定位为使得所述多孔非陶瓷基底将所述入口与所述出口分离；执行至少一次如下反复，顺序地将第一和第二反应性气体在所述入口引入使得所述第一和第二反应性气体流动穿过所述多孔非陶瓷基底到达所述出口，从而在所述多孔非陶瓷基底的内表面上执行两个或更多个自限制反应的序列，以在所述内表面的至少一部分上形成保角涂层。

专利地区：美国