催化CVD装置、膜的形成方法、太阳能电池的制造方法和基材的保持体专利登记公告

专利名称：催化CVD装置、膜的形成方法、太阳能电池的制造方法和基材的保持体

摘要：在催化CVD装置(100)中，保持体300)具有用于防止从催化剂丝(11)所放出的辐射线向基材(200)侧反射的防反射结构。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080044569.8

专利申请（专利权）人：三洋电机株式会社;株式会社爱发科

专利发明（设计）人：岛正树;若宫要范;大园修司;冈山智彦;小形英之

主权项：一种催化CVD装置，其特征在于：其对设置于反应室内且被加热的催化剂丝供给原料气体，使所生成的分解产物沉积于在所述反应室内由保持体所保持的被成膜基材上，进行成膜，所述保持体具有用于防止从所述催化剂丝放出的辐射线反射的防反射结构。

专利地区：日本