阴图制版可成像元件专利登记公告

专利名称：阴图制版可成像元件

摘要：可以使阴图制版可成像元件成像并且将其冲洗以提供平版印版。这些可成像元件对红外辐射敏感，但对″白″光不敏感，并且因此可以较容易在白光条件下操作。通过将λmax为300至500nm的过滤染料掺入到可成像元件的可成像层中，这些性质是可能的。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080045791.X

专利申请（专利权）人：伊斯曼柯达公司

专利发明（设计）人：C·辛普森;U·马勒;H·鲍曼;U·沃斯

主权项：一种阴图制版可成像元件，其包括衬底并在所述衬底上具有可成像层，所述可成像层对750至1400nm的成像辐射敏感，所述可成像层包含：(1)λmax为750至1400nm的红外辐射吸收化合物；(2)聚合物粘结剂；(3)可自由基聚合的化合物；(4)响应于红外辐射曝光而提供自由基的组合物；和(5)λmax为300至500nm的过滤染料，并且其以一定量仅存在于所述可成像层中使得所述可成像元件的白光稳定性满足以下不等式：WLS＞3(WLS0)其中WLS表示含有所述过滤染料的所述可成像元件的白光稳定性，WLS0表示不同

专利地区：美国