用于控制涂覆沉积的方法和设备专利登记公告

专利名称：用于控制涂覆沉积的方法和设备

摘要：用于控制涂覆沉积工艺的方法和设备，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶。该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。所述设备包含用于监测超细颗粒的装置(13)和用于根据该监测调节至少一个工艺参数的装置(14)。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080046136.6

专利申请（专利权）人：BENEQ有限公司

专利发明（设计）人：M·拉加拉;J·蒂卡宁

主权项：一种用于控制涂覆沉积工艺的方法，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体或反应产物中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶，该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。

专利地区：芬兰